二氧化硅濺射靶材
S i o 2濺射靶材可以用作鍍膜基板
純度：二氧化硅99.95% ~99.9999%
種類：石英顆粒、石英毛坯、石英基片、石英環形靶、石英方磚；
特點：純度高、氣密性度低、無雜質
特色：種類多、可制造大規格
用途：鍍膜、半導體、光學、環保、新能源
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